Anteprojeto de um implantador de ions para 40 KeV
AUTOR(ES)
Furio Damiani
DATA DE PUBLICAÇÃO
1976
RESUMO
Not informed.
ASSUNTO(S)
ACESSO AO ARTIGO
http://libdigi.unicamp.br/document/?code=000046992Documentos Relacionados
- Alcances de ions energéticos (10 a 390 keV) implantados em silício amorfo
- Estudo do alcance de elétrons com energias entre 110 eV e 50 KeV
- Inactivation of catalase monolayers by irradiation with 100 keV electrons.
- Construção de um acelerador de elétrons de 20KeV: aplicação ao estudo dos polímeros.
- Um espectômetro de massas de tempo-de-vôo para o estudo da ionização de amostras gasosas por elétrons rápidos (0,5 - 1,0 keV)