Catodo oco com constriÃÃo para corrosÃo de materiais eletrÃnicos em alto vÃcuo.
AUTOR(ES)
Freitas, Fernando Marques
DATA DE PUBLICAÇÃO
2006
RESUMO
Neste trabalho foram desenvolvidos estudos sobre um jato de plasma com o objetivo de aperfeiÃoar seu emprego para corrosÃo (plasma etching) de materiais eletrÃnicos. Foi investigado um novo tipo de reator, recentemente desenvolvido, no qual um jato de plasma à gerado em alto vÃcuo a fim de proceder à corrosÃo dos materiais. Com o intuito de determinar as condiÃÃes caracterÃsticas de corrosÃo adequadas a processos de microeletrÃnica, foram realizados diversos experimentos a fim de avaliar a influÃncia dos parÃmetros de controle tais como corrente elÃtrica da descarga, tensÃo aplicada, pressÃo de operaÃÃo, e influÃncia de campo magnÃtico. Os materiais utilizados, especificamente, filmes de Carbono tipo Diamante sÃo fabricados por tÃcnicas de deposiÃÃo por sputtering. As taxas de corrosÃo em funÃÃo dos parÃmetros de controle constituÃram o conjunto de condiÃÃes de operaÃÃo avaliadas no sentido de se caracterizar a nova tÃcnica de corrosÃo por plasma para processos de microeletrÃnica. Os resultados indicam que o processo em alto vÃcuo na presenÃa de campos magnÃticos moderados oferecem algumas vantagens potenciais em relaÃÃo a outras tÃcnicas de processamento por plasma utilizadas na microeletrÃnica. A corrosÃo em ambiente de baixa pressÃo reduz a presenÃa de impurezas sendo que a direcionalidade do jato de plasma favorece a anisotropia da corrosÃo.
ASSUNTO(S)
descargas elÃtricas filmes finos plasmas frios sonda de langmuir corrosÃo fÃsica de plasmas catodos ocos diagnÃstico de plasmas
