Decapagem de fotorresiste por plasma de O2 e SFG e a sua aplicação no processo de fabricação de "air bridger"
AUTOR(ES)
Ricardo Toshinori Yoshioka
DATA DE PUBLICAÇÃO
1992
RESUMO
Not informed
ASSUNTO(S)
plasma (gases ionizados) circuitos integrados
ACESSO AO ARTIGO
http://libdigi.unicamp.br/document/?code=vtls000065497Documentos Relacionados
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