Implementação de um sistema LPCVD vertical para obtenção de filmes finos de silicio policristalino
AUTOR(ES)
Ricardo Cotrin Teixeira
DATA DE PUBLICAÇÃO
2001
RESUMO
ormado.
ASSUNTO(S)
deposição quimica de vapor filmes finos silicio
ACESSO AO ARTIGO
http://libdigi.unicamp.br/document/?code=vtls000223214Documentos Relacionados
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