Deposicao Quimica Na Fase Vapor Assistida Por Plasma
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1. Modificação da molhabilidade de filmes carbono amorfo hidrogenado por processos ópticos / Wettability modification of hydrogenated amorphous carbon film by optical process
Este trabalho tem como objetivo investigar as mudanças na mol habilidade de filmes de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) induzidas por processos ópticos. Estes filmes de a-C:H foram depositados pela técnica química na fase vapor assistida por plasma (PECVD) sobre substratos de aço e latão, em ambiente com 100% de acetileno. Dois grupos de amostras fora
Publicado em: 2011
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2. Nanofibras de carbono verticalmente alinhadas:: estudo do crescimento por microscopia eletrônica de transmissão
This work is about the growth of vertically aligned Carbon Nanofibers - CNFs - grown by Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition - PECVD. Being so, a detailed study of catalyst particle is necessary and Transmission Electron Microscopy - TEM - is fundamental for this knowledge. Some analytical techniques associated to TEM were used: Bright and Dark Field I
Publicado em: 2008
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3. Obtenção e caracterização de revestimentos de hidroxiapatita sobre substratos de aço inoxidável 316L utilizando a técnica de deposição química de vapor assistida por chama
A Deposição Química de Vapor Assistida por Chama (DQVAC) foi empregada de forma pioneira na obtenção de revestimentos de hidroxiapatita sobre substratos de aço inoxidável 316L. Esta técnica apresenta um grande potencial na deposição de óxidos, principalmente pelo baixo custo de equipamentos e insumos. Para aplicação como biomaterial, é desejáv
Publicado em: 2007
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4. Estudo das modificações microestruturais e mecânicas de filmes de a-C:H, a-C:N:H: e a-C:F:H irradiados com íons de N/sup +/ e Xe/sup ++/
Nesse trabalho foram estudados os efeitos da irradiação iônica em filmes de carbono amorfo hidrogenado, sem (a-C:H) e com a presença de N e F (a-C:N:H e a-C:F:H, respectivamente). Os filmes foram crescidos através da técnica de Deposição Química na Fase Vapor Assistida por Plasma. Após a deposição, os filmes foram irradiados com N+ a 400 keV e Xe
Publicado em: 2007
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5. Estudo e produção de filmes de oxinitreto de silício (SiOxNy) pela técnica de PECVD.
Neste trabalho apresentamos os resultados da deposição e caracterização de filmes de oxinitreto de silício (SiOxNy) pela técnica de deposição química a vapor assistida por plasma (PECVD) à baixas temperaturas (320oC). O objetivo deste trabalho é obter filmes de ligas amorfas de silício, oxigênio e nitrogênio com composição química ajustável
Publicado em: 2003
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6. PRODUCTION AND CHARACTERIZATION OF HYDROGENATED AMORPHOUS CARBON THIN FILMS DEPOSITED IN METHANE PLASMAS DILUTED BY NOBLE GASES / PRODUÇÃO E CARACTERIZAÇÃO DE FILMES FINOS DE CARBONO AMORFO HIDROGENADO DEPOSITADOS EM PLASMAS DE METANO DILUÍDOS POR GASES NOBRES
Neste trabalho são apresentados os efeitos da diluição da atmosfera precursora de metano por três gases nobres (Ar, Ne e He) nas propriedades mecânicas e na microestrutura de filmes de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H). Tanto a influência da diluição da atmosfera precursora de metano (para Vb=-350 V), como da variação da tensão de autopolarizaç�
Publicado em: 2003
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7. Caracterização de filmes finos de carbono depositados por PECVD
Neste trabalho é apresentado um estudo sobre a obtenção de filmes finos de carbono por deposição química a partir da fase de vapor assistida por plasma de RF. (RF-PECVD), com posterior caracterização dos mesmos através de diferentes técnicas. Inicialmente são apresentadas características gerais sobre o processo de obtenção dos filmes por PECVD,
Publicado em: 1995