Oxidos Espessos
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1. Estudo da Oxidação de Ligas Fe-Cr a Altas Temperaturas / Estudo da Oxidação de Ligas Fe-Cr a Altas Temperaturas
Ligas Fe/Cr elaboradas no Max-Planck Institute fuer Eisenforschung foram submetidas a tratamento de oxidação isotérmica, em atmosfera de ar sintético na faixa de temperaturas de 700C a 850C. Os filmes de óxidos formados foram caracterizados microestruturalmente por microscopia eletrônica de varredura (MEV) e, quimicamente, por espectroscopia dispersiva
IBICT - Instituto Brasileiro de Informação em Ciência e Tecnologia. Publicado em: 25/03/2011
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2. Filmes finos dielétricos para a tecnologia do silício : processamento térmico e caracterização
O rápido avanço tecnológico coloca a tecnologia do Si diante de um grande desafio: substituir o dielétrico de porta utilizado por mais de 40 anos em dispositivos MOSFET (transistor de efeito de campo metal-óxido-semicondutor), o óxido de silício (SiO2), por um material alternativo com maior constante dielétrica. Nesse contexto, vários materiais têm
Publicado em: 2007
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3. Fotocromismo em filmes óxidos de tungstênio
Neste trabalho foi estudado o comportamento ótico, decorrente do efeito fotocrômico, em filmes de óxido de tungstênio do tipo WO3-x depositados por sputtering sob diferentes fluxos de O2 e do tipo HxWO3, depositados por dip coating. O efeito foi provocado irradiando-se com luz UV, filmes colocados no interior de um fotoreator, em atmosferas de vapores de
Publicado em: 2001
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4. Caracterização eletroquímica e ótica de filmes de óxido espesso crescidos sobre ouro. / Eletrochemical and optical characterization of thick oxide films on gold electrodes.
Potentiostatic polarization of polycrystalline Au electrodes at various polarization potentials, 1.8, ..., 2.4 V, RHE, for polarization times up to 72h, in acid and basic solutions, leads to formation of four oxide states, OC1, OC2, OC3 and OC4, distinguished, in reduction, using linear-sweep voltammetry. The quasi-2d state (OC1) tends to the limit of two mo
Publicado em: 1995