Resiste Su 8
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1. Desenvolvimento de processo litográfico tri-dimensional para aplicação em microóptica integrada. / Development of three-dimensional lithographic process for application in integrated micro-optics.
O presente trabalho tem como objetivo desenvolver um processo de fabricação de elementos micro-ópticos utilizando-se litografia por feixe de elétrons, empregando o resiste SU-8, negativo e amplificado quimicamente, sobre substrato de Si. Para tanto, é realizado o estudo dos parâmetros do efeito de proximidade a, b e h para se modelar e controlar os efe
Publicado em: 2010